廢氣處理技術(shù)設(shè)備設(shè)備的工作基本原理

廢氣處理技術(shù)設(shè)備設(shè)備的工作基本原理

廢氣處理廠的工作方式：

1.惡臭氣體通過排氣裝置進入凈化裝置后，該凈化裝置利用高能紫外線和臭氧協(xié)同分解和氧化惡臭氣體，使惡臭氣體物質(zhì)降解轉(zhuǎn)化為低分子量化合物、水和二氧化碳，通過排氣管排出室外。廢氣處理公司能有效去除工廠車間產(chǎn)生的苯、甲苯、二甲苯，醋酸乙酯，丙酮，丁酮，乙醇，丙烯酸，甲醛等有機廢氣，硫化氫，二氧化硫，氨等酸堿廢氣處理。有機廢氣處理針對工業(yè)場所、工廠車間產(chǎn)生的廢氣在對外排放前進行預(yù)處理，以達到國家廢氣對外排放的標(biāo)準(zhǔn)的工作。廢氣處理設(shè)備一般廢氣處理包括了有機廢氣處理、粉塵廢氣處理、酸堿廢氣處理、異味廢氣處理和空氣殺菌消毒凈化等方面。

2.利用高能紫外光束破解惡臭氣體中細(xì)菌的分子鍵，破壞細(xì)菌的核酸(DNA)，然后與臭氧發(fā)生氧化反應(yīng)，從而完全達到除臭殺菌的目的。

廢氣處理技術(shù)設(shè)備設(shè)備的特點：

該技術(shù)特點：成本低，運行穩(wěn)定可靠，無需個人護理，但廢氣處理設(shè)備速度較慢，與低溫等離子技術(shù)相比效率低。

低溫等離子體是物質(zhì)繼固態(tài)、液態(tài)和氣態(tài)之后的第四種狀態(tài)。當(dāng)施加的電壓達到氣體的放電電壓時，氣體迅速分解，產(chǎn)生電子、各種離子、原子和自由基的混合物。雖然放電過程中電子溫度很高，但重粒子的溫度很低，整個系統(tǒng)呈現(xiàn)低溫狀態(tài)，因此稱為低溫等離子體。污染物的低溫等離子體降解就是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物，使污染物分子在很短的時間內(nèi)分解，并隨后發(fā)生各種反應(yīng)，以實現(xiàn)污染物降解的目標(biāo)。(注: 低溫等離子體與高溫等離子體相比，是一種常溫操作。)等離子體反應(yīng)區(qū)富含高能電子、離子、自由基和激發(fā)分子等高能物質(zhì)，廢氣中的污染物可以與這些高能物質(zhì)發(fā)生反應(yīng)，使污染物在很短的時間內(nèi)分解，從而達到解釋污染物的目的。與傳統(tǒng)電暈放電生產(chǎn)的低溫等離子體技術(shù)相比，等離子體技術(shù)的放電密度是電暈放電的1500倍，這是99% 的傳統(tǒng)低溫等離子體技術(shù)未能處理工業(yè)廢氣的原因。

與目前國內(nèi)普遍采用的惡臭氣體處理方法相比，等離子體工業(yè)廢氣處理設(shè)備技術(shù)具有以下特點:低溫等離子體技術(shù)應(yīng)用于惡臭氣體處理具有良好的處理效果，雖然成本較高，但運行成本極低，無二次污染，運行穩(wěn)定，操作管理簡單，即開即用等特點。，廢氣可在瞬間得到處理。同時，低溫等離子體技術(shù)效率高，對環(huán)境的安全系數(shù)要求高。

廢氣處理技術(shù)設(shè)備設(shè)備較其他廢氣處理系統(tǒng)設(shè)備設(shè)備的優(yōu)勢：

換句話說，紫外線照射技術(shù)是用于照射由紫外線燈產(chǎn)生的光譜為185nm和光譜為253.7nm的廢氣成分，分解廢氣中的氧分子以產(chǎn)生臭氧，并且利用臭氧氧化和分解廢氣的技術(shù)。 該技術(shù)主要用于殺菌、消毒等操作條件。

2、主要設(shè)備配置不同: 設(shè)備內(nèi)部組成主要由紫外線燈、活性炭光纖過濾層組成。

3、去除能力不同：

臭氧的氧化能力為1。5%.

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